Пінка для вмивання SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam, 125 мл
Пінка для вмивання SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam, 125 мл
590.00грн

Пінка для вмивання SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam, 125 мл

Код товару:
2492
590.00грн
Hurry! Only 4 left in stock!

SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam – це ніжна, але ефективна очищуюча пінка для обличчя, розроблена для глибокого очищення без пересушування. Завдяки екстракту центели азіатської вона не лише видаляє забруднення, надлишок себуму та залишки макіяжу, але й заспокоює шкіру, зменшуючи подразнення та почервоніння. Формула має слабокислотний pH, який підтримує природний баланс шкіри, не порушуючи її захисний бар’єр. Пінка ідеально підходить для чутливої, комбінованої, жирної та проблемної шкіри.

Основні переваги:

  • Делікатне, але глибоке очищення без пересушування
  • Заспокійливий ефект завдяки високій концентрації центели азіатської
  • Підтримка pH-балансу для збереження природного бар’єра шкіри
  • Легка кремова текстура, яка перетворюється на густу піну
  • Підходить для щоденного використання

Активні компоненти:

  • Екстракт центели азіатської (33%) – заспокоює, зменшує почервоніння та сприяє регенерації
  • Мадекасосид – відновлює та захищає шкіру від подразнень
  • Бетаїн – глибоко зволожує та запобігає сухості
  • Гіалуронова кислота – утримує вологу та підтримує еластичність шкіри
  • Кокосові ПАР – м’яко очищають без подразнення

Застосування: Змочити обличчя теплою водою. Видавити невелику кількість пінки на долоні, спінити її з водою. Нанести отриману піну на обличчя масажними рухами. Ретельно змити теплою водою. Використовувати вранці та ввечері для щоденного очищення.

Склад: Water, Glycerin, Myristic Acid, Stearic Acid, Potassium Hydroxide, Lauric Acid, Palmitic Acid, Cocamidopropyl Betaine, PEG-32, PEG-8, Centella Asiatica Extract, Madecassoside, Betaine, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Ethylhexylglycerin, Disodium EDTA.